FIS4波前传感器为光学测量提供全方位的解决方案

自2006年，浙江大学杨甬英教授团队推出径向剪切波前检测，历经17年潜心研发，杨甬英教授团队推出宽光谱FIS4系列波前传感器（Wavefront Sensor），采用共路干涉技术，具备更强的环境适应性和测量稳定性，为高精密测量提供了更优解决方案。

核心优势在于超高精度检测能力：采用512×512超高分辨率传感器，单帧可获取26万个相位点，是传统Hartmann传感器（通常仅1万点左右）的数十倍，可清晰呈现纳米级波前细节。配合2nm RMS的超高测量精度，FIS4能精准捕捉光学元件、激光、波前纳米级畸变等细微特征。FIS4波前传感器（Wavefront Sensor）在光刻机镜组检测、高能激光器热畸变监测、超精密光学加工等高端领域有不可替代的实际价值。

FIS4波前传感器 VS Hartmann传感器

✅ 1. 相位分辨率：26万 vs 1万

FIS4波前传感器（Wavefront Sensor）：512×512 超高分辨率（26万+相位点），是哈特曼的几十倍，可以更精准的测量高频段信息分布！

Hartmann：通常 32×32~128×128 采样点（1万左右），细节丢失严重。

✅ 2. 空间分辨率：13.8μm vs 100μm

FIS4波前传感器（Wavefront Sensor）：采用光学刻蚀工艺，最小空间分辨率可达13.8μm，更小的空间分辨率保证了在更高频段的相位测量的准确性。

Hartmann：受制于加工与测量精度，微透镜阵列的尺寸一般大于100μm，导致空间分辨率难低于100μm。

✅ 3. 测量精度：2nm vs 10nm

FIS4波前传感器（Wavefront Sensor）：在高精度的光刻加工中保证了高精度的测量结果，检测精度可以做到2 nm RMS超高精度（头发丝的1/50000）。可以轻松检测纳米级面形误差、激光波前畸变等。

Hartmann：受制于透镜聚焦光斑定位，透镜的加工误差会影响测量精度，测量精度仅可达10-50nm RMS。

✅ 4.动态范围 200μm vs 10μm

FIS4波前传感器（Wavefront Sensor）：采用连续刻蚀方式，可实现超大动态范围的测量，最高可达200μm，保证了不同的测量场景应用。

Hartmann：受制于透镜聚焦光斑定位区域，动态范围难实现10μm以上。

FIS4波前传感器（Wavefront Sensor）以纳米级精度、强环境适应性及智能分析能力，可为光学测量提供全方位的解决方案。可同时兼顾高精度波前测量、光斑分析、MTF测量等功能，为光学测量提供可靠数据支撑，有效提升加工精度与系统性能。可广泛应用在激光光束分析、光学系统像质测量、面形测量、微纳轮廓测量、生物细胞定量相位等领域。

大动态范围测量

生物细胞3D的成像测量

晶耐科光电携手愚程光感将持续扩展FIS4四波干涉传感器（Four-Wave Interferometric Sensor）的波长覆盖范围与技术边界，为半导体、航空航天、生物医疗等领域客户提供更灵活的检测解决方案。诚邀全球合作伙伴垂询，共同探索精密制造的无限可能！如需详细资料，欢迎访问官网联系客服或销售顾问获取。希望能为您构建更加优质、快捷的使用体验。