FIS4-UV紫外波前传感器助力半导体/光刻机行业发展！

【国产自研 创新突破 赋能精准测量】

在半导体、光刻机光刻机行业中，高精度的波前传感器是关键组件之一。它可以实时监测和校正光刻机光学系统中的误差，从而提高光刻质量和良品率。FIS4-UV紫外波前传感器在半导体、光刻机行业中具有重要作用。该传感器具有高分辨率，消色差，超强的抗振性能，高灵敏度（2nm RMS）等特点，可以为半导体制造和光刻机技术提供关键波像差数据，高效提升生产力与产品质量，驱动半导体行业加速前行。

FIS4-UV干涉传感器（如图1）专为紫外波段检测应用而设计，具备512×512高分辨率与13.3mm × 13.3mm大靶面，支持192nm深紫外光源，以及200nm-400nm等多个紫外波段。

（图一）FIS4-UV干涉传感器

半导体制造过程监测：在半导体制造过程中，FIS4-UV可以实时监测晶圆的表面形貌和光学特性，以确保制造过程的一致性和质量。它可以帮助工程师及时发现问题并进行调整，从而提高生产效率和产品质量。

光学系统校准测量示例

超透镜波前测量示例

光学元件检测：可以检测透镜、反射镜等光学元件的表面形貌和折射率分布。

FIS4-UV可以测量透镜或者透镜组，平面反射镜，球面反射镜的表面面型、曲率半径、折射率分布，透射波前变化，MTF传递曲线等参数，从而评估透镜或者透镜组的质量和性能。

END