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FIS4-UV紫外波前传感器助力半导体/光刻机行业发展！
【国产自研 创新突破 赋能精准测量】在半导体、光刻机光刻机行业中，高精度的波前传感器是关键组件之一。它可以实时监测和校正光刻机光学系统中的误差，从而提高光刻质量
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晶耐科光电 | 2025杭州国际光电博览会展会回顾
展会回顾为期三天的2025杭州国际光电博览会圆满落下帷幕，晶耐科光电作为展会的积极参与者，始终以技术创新为核心驱动力，深耕高端光电检测和量测装备领域。02现场交
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晶耐科邀您共赴2025杭州国际光电博览会
展会概况 ▼ Exhibition Overvie光电产业作为21世纪最重要的产业，深刻影响着各行各业的发展。2023年全年，全球光电产业市场将进入稳定发展
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2025慕尼黑上海光博会圆满收官！
再次衷心感谢大家的关注与期待落幕不散场期待与您的下一次相见2025慕尼黑上海光博会圆满落幕，感谢新老朋友的莅临与指导，也感谢每一位客户对我们的信任与支持!虽然展
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光学微纳检测技术论坛——杨甬英教授专题演讲
演讲嘉宾杨甬英，浙江大学，教授演讲题目FIS4四波剪切干涉传感技术在微纳光学检测中的应用演讲时间2025年3月12日上午10：00演讲地点上海新国际博览中心E7
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晶耐科诚邀您共赴2025慕尼黑上海光博会
会议邀请 慕尼黑上海光博会 2025.3.1113 地址：上海新国际博览中心
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杨甬英教授受邀参加光学微纳检测技术论坛并做专题演讲
时间：2025年3月12日上午10：00地点：上海新国际博览中心E7馆论坛区演讲嘉宾：杨甬英，浙江大学，教授演讲题目：FIS4四波剪切干涉传感技术在微纳光学检测
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横向剪切干涉测试技术——偏振横向剪切干涉法
横向剪切干涉测试技术 BASIC CONCEPTS偏振横向剪切干涉法偏振横向剪切干涉利用的是晶体平板的双折射效应产生两束相互交叠的光束，目前主要有单块晶体平板以
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