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  4. 光学系统测量 / 光学窗口片检测

提高光学窗口片的制造质量和可靠性，降低生产成本

FIS4四波横向剪切干涉技术在光学窗口片的质量检测与分析中展现出显著的优势。这一技术的应用领域涵盖了：

◆ 表面平整度测量：FIS4技术能够精准地测定光学窗口片的表面形态，识别任何微小的不规则性，确保其平整度符合高标准的要求。

◆ 膜层均匀性检测：对于涂覆有各种功能性薄膜的光学窗口片，FIS4可以评估膜层的厚度和均匀性，这对于保证光学性能至关重要。

◆ 应力与应变分析：FIS4技术可以揭示制造过程中可能引入的内应力，为制造商提供调整工艺的依据，以减少或消除这些应力。

◆ 热膨胀特性评估：通过FIS4技术的测量，可以评估光学窗口片材料在温度变化下的尺寸稳定性，保证其在不同环境条件下的可靠性。

利用这些检测能力，FIS4技术在光学窗口片的制造和品质控制过程中提供了关键支持，使制造商能够提高产品的质量和可靠性，并且有助于降低生产成本。这些优势使得FIS4成为一个强大的工具，用于确保光学窗口片能够满足日益严苛的性能标准。

测量优势

单帧图实现完整测量

 

◆ 面形测量

◆ 材质内部评价

◆ 应力分析

高分辨率

 

◆ 多达512×512相位采样点

◆ 高动态范围

◆ 纳米级灵敏度

易于调节集成

 

◆ 小巧、紧凑

◆ 支持平行、会聚光束

◆ 超强的抗振性能

测量示例

▎光学窗口片检测光路

      

▎光学窗口片检测

测量演示

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